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ICP干法刻蚀机

ICP干法刻蚀机

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<p>● 6/8英寸兼容</p><p>● 设备结构简单，外形小</p><p>● 操作简便、便于自动控制、适合大面积基片刻蚀</p><p>● 优异的刻蚀均匀性，刻蚀速率快</p><p>● 选择比高、各向异性高、刻蚀损伤小</p><p>● 断面轮廓可控性高，刻蚀表面平整光滑</p>
CCP干法刻蚀机

CCP干法刻蚀机

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<p>● 6/8英寸兼容</p><p>● 刻蚀形貌好、工艺性能优越</p><p>● 高选择比、高刻蚀速率</p><p>● 低拥有成本和消耗成本</p>
400平台刻蚀系统

CCP干法刻蚀机

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<p>● 盒式对盒式集簇式真空传输系统</p><p>● 正方形真空传输腔，最多支持3个工艺腔</p><p>● 高可靠真空机械手</p><p>● 晶圆自校准及晶圆扫描</p><p>● 满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统</p><p>● 适合小规模量产</p>
600平台刻蚀系统

600平台刻蚀系统

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<p>● 盒式对盒式集簇式真空传输系统</p><p>● 双真空升降平台</p><p>● 六边形真空传输腔，最多支持4个工艺腔</p><p>● 高可靠真空机械手</p><p>● 晶圆自校准及晶圆扫描</p><p>● 满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统</p><p>● 适合大规模量产</p>
Manual Load系统

Manual Load系统

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<p>● 单片晶圆真空传输系统</p><p>● 低成本高可靠</p><p>● 满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统</p><p>● 适合研发及小规模生产</p>

电话：400-883-6891

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